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刻蝕檔案

TYPHOON™ S790 Quartzware 清洗設備 Versum Materials TYPHOON Quartzware 清洗設備是一種獨立系統,設計用於在所有垂直噴霧過程中自動清潔和沖洗 200 或 300mm 的豎爐石英器皿。TYPHOON 提供更快且更清潔的流程,並且使用者成本 (cost-of-ownership)更低。該工具提供兩個具有同步獨立操作的處理室。

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電子級 二氟化氙 (XeF2) 二氟化氙(XeF2)是微機電市場中使用的高選擇性等向性蝕刻氣體。Versum Materials 提供穩定,低成本的 XeF2 產品。

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OMNI™ Quartzware 清洗設備 Versum Materials Omni Quartzware清洗設備是一種獨立系統,用於在所有垂直噴霧過程中自動清潔和沖洗 300mm(或更小)的豎爐石英器皿。Omni 具有雙處理室,右處理室中採用專門設計的夾具用於管道和襯套,左處理室中旋轉傳送帶上有多個固定裝置用於所有其他石英配件…

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nCtrl 級 六氟丁二烯 (C4F6) 1,3-六氟 -丁二烯 (C4F6)用於介電質蝕刻應用。1,3-六氟 -丁二烯 (C4F6)是一種有毒、無色、無味、易燃的液化氣體。

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VLSI 級 六氟丁二烯 (C4F6) 1,3-六氟 -丁二烯 (C4F6)用於介電質蝕刻應用。1,3-六氟 -丁二烯 (C4F6)是一種有毒、無色、無味、易燃的液化氣體。

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