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台灣 - 第 15 頁

ACT NE89 ACT® NE-89 蝕刻殘留物去除劑是一種含氟化學品,特別配製用於去除蝕刻殘留物和/或用於被污染氧化物表面的受控蝕刻。該產品專為單晶圓工具加工而設計。

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ACT XT-1100 ACT XT-1100 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻(photoresists)剝離液是一種含氟化學品,配製用於去除有機和高度氧化的蝕刻殘留物。ACT XT-1100 迅速、高效地移除蝕刻殘留物和正型光阻,並將由於低氧化對通孔、金屬線和垂直通道的臨界尺寸造成的影響控制到最低...

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ACT 930 ACT® 930 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻(photoresists)是用於鋁製程應用的低羥胺(HA)產品。它的成本低,並且可以非常有效地去除蝕刻殘留物。在全球半導體產業得到廣泛應用。

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ACT 935UP ACT® 935 UP 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻去除劑是高效的含羥胺蝕刻殘留物和正型光阻剝離液。該產品在整個半導體產業的各種應用中獲得廣泛認可。

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ACT 940 ACT® 940 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻(photoresists)是用於鋁製程應用的高效羥胺(HA)產品。它可以非常成功地去除蝕刻殘留物,同時保護暴露的鋁、和鎢。它被世界各地的半導體代工廠廣泛採用。

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ACT 970 ACT® 970蝕刻殘留物去除劑和正型光阻剝離液是極為高效的胺基產品,用於鋁和銅應用。

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ACT 970T ACT®970T 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻(photoresists)剝離液可有效去除難處理的蝕刻殘留物,同時保護暴露的銅。專門設計用於需要考慮銅腐蝕的基材。

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ACT 412 ACT® 412正型光阻剝離液專門針對高效移除 III-V 類化合物和金屬合金基材上的正型光阻而配製。

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ACT 690S ACT® 690S 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻剝離液是一款溶劑基礎型的產品,用於剝離重度加工的光阻膜和蝕刻殘留物。

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ACT 690SX ACT® 690SX 是一種有機溶劑基礎型的混合物,在去除重度加工的光阻(photoresists)膜和腐蝕敏感金屬以及合金上的蝕刻殘留物方面特別有效。

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