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韓國 - 第 14 頁

ACT 930 ACT® 930 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻(photoresists)是用於鋁製程應用的低羥胺(HA)產品。它的成本低,並且可以非常有效地去除蝕刻殘留物。在全球半導體產業得到廣泛應用。

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ACT 935UP ACT® 935 UP 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻去除劑是高效的含羥胺蝕刻殘留物和正型光阻剝離液。該產品在整個半導體產業的各種應用中獲得廣泛認可。

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ACT 940 ACT® 940 蝕刻殘留物去除劑和正型光阻(photoresists)是用於鋁製程應用的高效羥胺(HA)產品。它可以非常成功地去除蝕刻殘留物,同時保護暴露的鋁、和鎢。它被世界各地的半導體代工廠廣泛採用。

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