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日本 - 第 2 頁

適用於 Y 型汽缸的 GASGUARD® 大量 eV 溫度控制系統 適用於加熱氣體的最新一代智慧製造技術-降低使用者成本 (cost-of-ownership)、提供更高的流量、進一步提高安全性和可靠性。適用於加熱 Y 型汽缸的獨立式 GASGUARD 大量 eV 溫度控制系統可以在兩個階段中提供:首先是 ECC 控制器,其次是新加熱毯。可以進行修改,以便讓系統…

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GASGUARD® 主動控制階段 1 在零漂移的不同生產條件下,為高蒸汽壓力氣體維持、重複和穩定壓力。我們的 GasGuard 主動階段 I 技術現在允許半導體晶圓廠在零漂移供應到工具的過程中,控制摻雜劑氣體、吹掃氣體和高壓鹵化碳(NF3、矽烷、N2O、CO2、CF4 等)等高蒸汽壓力氣體的壓力,從而實現更高的精度…

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GASGUARD® LED 照明 – 機櫃和控制器內的固態 LED 照明 GasGuard 氣體櫃和控制器內的 LED 照明,可改善維護和故障排除過程中的使用者體驗。此選項僅適用於 GASGUARD AP11 控制器。自動關閉的可選時間值為 31-99 分鐘。標準設定是 99 分鐘。LED 照明主要優點:提高檢查可見性、氣缸更換、維護和操作長使用壽命高能效獨立 –…

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適用於 GASGUARD® AP11/Gen III 控制器的本地趨勢軟體 「本地趨勢」軟體選項為操作員提供類比歷史記錄。此軟體選項適用於 Versum Materials 的任何 AP11/Gen III 控制器。此功能可以加裝安裝在控制器中的程式設計軟體加密器,並進行韌體升級。允許使用者跟蹤任何隨著時間變化的類比變數,如供應壓力、氣缸壓力或溫度。時間追蹤…

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S-1088 排放管沖洗站 Versum Materials S-1088 型產品是一款獨立全自動系統,設計用於清潔不銹鋼排氣管和其他帶有使用者可程式設計 DIW 和酸性混合物的晶圓廠零件。

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S-1702 蝕刻零件清潔劑 Versum Materials S-1702 型產品是一款獨立全自動系統,設計用於酸蝕刻和沖洗石英室、陶瓷環、噴頭和其他使用精確預程式設計配方的零件。使用者可選擇酸噴霧和噴霧沖洗迴圈,以提供均勻的蝕刻和完全沖洗。

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S-1087 排放工作站 Versum Materials S-1087 排放工作站是一個獨立手動工作站,設計用於在排放環境中執行零件清潔和沖洗。水槽配有兩個 (2) 固定噴霧棒,可透過按下「噴霧棒」按鈕進行操作。氣動式排水閥將允許操作員填充或傾倒…

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CHEMGUARD® Gen III CG350 型化學品自動加藥系統帶選配的 eV 加熱功能 全新:第三代 CHEMGUARD 來了!CHEMGUARD CG350 是一款雙罐液體填充 (DTLR) 機櫃,旨在最大限度延長正常執行時間,可滿足當今晶圓製造廠的苛刻要求。CHEMGUARD 的尺寸進一步縮小,僅為 457mm (18 in.) x 533 mm (21 in.),可以直接相鄰地放置多個儲櫃。這最大程度提高……

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PH3(磷化氫)ION-X® 摻雜劑氣體儲存和供應系統 Versum Materials 和 NuMat Technologies 宣佈成立全球聯盟,為我們全球的客戶提供 ION-X 低於大氣壓的摻雜劑氣體儲存和供應系統解決方案。使用 ION-X 用於安全儲存和供應砷烷、磷烷和三氟化硼等低於大氣壓的摻雜劑氣體。ION-X® 憑藉其金屬有機框架 (MOF),可在低於大氣層的情況下,選擇性吸附、儲存和安全供應超高純度氣體。

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QMAC® 品質監測和控制分析系統 Versum Materials 針對超高純度氣體和分配系統開發的 QMAC 品質監測和控制分析系統是一種經過驗證的解決方案,可透過監測大量和特種氣體雜質實現成功的半導體製造。QMAC® 品質監測和控制分析系統整合了超高純度分析儀,可以有效地對氮氣、氧氣、氬氣、氦氣和氫氣等超高純度氣體進行採樣......

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