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探索 CMP 研磨液品質的未來

Versum Materials 平坦化業務副總裁 Laura Matz 博士於 5 月 2019 日 16 在韓國首爾舉辦的 SMC Korea 2019 展會上做了題為「CMP 研磨液品質的未來」的演講。

SMC Korea 2019 是該地區首屈一指的電子材料會議。來自各個半導體製造領域的高層管理人員聚集在一起,提供先進材料領域的最新發展情況。該活動於 2019 年 5 月 16 日(星期四) 09:00-18:30 在 COEX 的會議室 401 進行。今年的主題是「塑造電子產業未來的材料」。

她的演講「化學機械平坦化研磨液品質的未來」介紹了產業和供應基礎面臨的挑戰,因為產業領導者繼續推動摩爾定律用於記憶體和邏輯器件,以及提高材料品質的重要性。配方產品,特別是平版印刷材料、配方清潔劑和化學機械平坦化研磨液,因為用於單一配方的各種原料而在這方面代表了更嚴峻的挑戰。隨著產業的發展,資料分析和預測建模的使用對於提高這些原材料的品質至關重要,以實現前沿品質並避免偏移發展路線。在原材料供應鏈中更深入地推動更高品質和供應管理與預測建模相結合,對於管理產品可變性同時平衡擁有權總成本至關重要。在本演講中,瞭解這種方法如何提高原材料的品質。

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